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分子束外延系統的組成說明
日期：2025-06-15 18:13
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摘要：
分子束外延（MBE）是一種靈活的外延薄膜技術，可以表述為在超高真空環境中通過把熱蒸發產生的原子或分子束投射到具有一定取向、一定溫度的清潔襯底上而生成高質量的薄膜材料或各種所需結構。晶體生長受分子束相互作用的動力學過程支配，而異于常規的化學氣相淀積(VPE)和液相外延(LPE)中的準熱力學平衡。隨著MBE技術的發展，出現了遷移增強外延技術（MEE）和氣源分子束外延（GS-MEE）技術，近年來又出現了激光分子束外延技術。
分子束外延系統主要由一個預處理室、一個過渡室和一個生長室組成。預處理室用于完成襯底的進樣，以Si襯底為例，在進樣室裝樣，等待約1.5小時后進樣室真空小于10-8Torr，再傳入過渡室內，在400℃下進行1小時預除氣，然后傳送入生長室；在生長室中主要完成樣品的高溫脫氧和緩沖層的外延過程。進樣室和過渡室的真空維持靠濺射離子泵，極限真空度可以達到10-10Torr，而生長室的真空維持靠低溫吸附泵、濺射離子泵和液氮冷阱，極限真空能到10-11 Torr。
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