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激光分子束外延系統基本配置的介紹
日期：2025-06-15 18:22
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摘要：
激光分子束外延系統集PLD的制膜特點和傳統MBE的超高真空**控制原子尺度外延生長的原位實時監控為一體，除保持了PLD方法制備的膜系寬，還可以生長通常的半導體超晶格材料，特別適合生長多元素、高熔點、復雜層狀結構的薄膜，如超導體、光學晶體、鐵電體、壓電體、鐵磁體等，同時還能進行其相應的激光與物質相互作用和成膜過程的物理、化學等方面的基礎研究。
基本配置如下：
沉積腔體程控系統
多靶材操作系統
激光二極管基板加熱系統
反射高能電子衍射儀系統
單軸組合光罩定位裝置
加載互鎖傳送真空室
準分子激光器系統
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