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分子束外延系統(tǒng)介紹
日期：2025-06-13 14:17
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摘要：
分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、化學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2013年11月22日啟用
超高真空沉積腔體，本底真空優(yōu)于10-9mbar。可集成多種薄膜制備和表面分析設(shè)備，如磁控濺射源、離子源、STM、XPS等。可以通過軟件編寫工藝流程，系統(tǒng)自動執(zhí)行，可實現(xiàn)多層膜的自動化生長。提供激光分子束外延系統(tǒng)原位監(jiān)測的RHEED的電子槍通常需要工作在較高的真空環(huán)境下（小于10-6mbar），但LMBE系統(tǒng)在成膜過程中往往需要較高的工藝壓力，我們的LMBE采用的是STAIB公司生產(chǎn)的差分抽氣RHEED，系統(tǒng)的*高工作氣壓可達100Pa。
激光分子束外延系統(tǒng)（LMBE）是在傳統(tǒng)的分子束外延（MBE）和脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的，PLD與提供原位監(jiān)測的反射高能電子衍射儀（RHEED）相結(jié)合，使得系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)類似于MBE的，單原子層精度的薄膜生長。相比于MBE的熱蒸發(fā)，它是使用脈沖激光的高能量使材料蒸發(fā)甚至電離，因此被稱作LaserMBE（激光分子束外延系統(tǒng)）。LMBE屬于**薄膜制備設(shè)備，適用于生長各種納米尺度的單層膜或多層膜。
超高真空沉積腔體，本底真空優(yōu)于10-9mbar。可集成多種薄膜制備和表面分析設(shè)備，如磁控濺射源、離子源、STM、XPS等。可以通過軟件編寫工藝流程，系統(tǒng)自動執(zhí)行，可實現(xiàn)多層膜的自動化生長。提供激光分子束外延系統(tǒng)原位監(jiān)測的RHEED的電子槍通常需要工作在較高的真空環(huán)境下（小于10-6mbar），但LMBE系統(tǒng)在成膜過程中往往需要較高的工藝壓力，我們的LMBE采用的是STAIB公司生產(chǎn)的差分抽氣RHEED，系統(tǒng)的*高工作氣壓可達100Pa。
激光分子束外延系統(tǒng)（LMBE）是在傳統(tǒng)的分子束外延（MBE）和脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的，PLD與提供原位監(jiān)測的反射高能電子衍射儀（RHEED）相結(jié)合，使得系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)類似于MBE的，單原子層精度的薄膜生長。相比于MBE的熱蒸發(fā)，它是使用脈沖激光的高能量使材料蒸發(fā)甚至電離，因此被稱作LaserMBE（激光分子束外延系統(tǒng)）。LMBE屬于**薄膜制備設(shè)備，適用于生長各種納米尺度的單層膜或多層膜。